精密研磨与抛光研磨
1. 弹性发射加工弹性发射加工(Elastic Emission Machining，EEM)是非接触抛光技术的理论基础。所谓弹性发射加21是非接触抛光技术的理论基础。所谓弹性发射加工，是指加工时研具与工件互不 接触，通过微粒子冲击工件表面，对物质的原子结合产生弹性破坏，以原子级的加工单位去除工件材料，从而获得无损伤的加工表面。
2．浮动抛光浮动抛光(float polishing)是一种平面度极高的非接触超精密抛光方法。22抛光方法。3. 动压浮离抛光动压浮离抛光(hydrodynamic-type polishing)是另一种非接触抛光。4. 非接触化学抛光普通的盘式化学抛光方法，是通过向抛光盘面供给化学抛光液，使其与被加工面作相对滑动，用抛光盘面来去除被加工件面上产生的化学反应生成 物。
5. 切断、开槽及端面抛光采用非接触端面抛光可以实现对沟槽的壁面、垂直柱状轴断面进行镜面加工，这是传统抛光方法难23柱状轴断面进行镜面加工，这是传统抛 光方法难以做到的。工具与工件互不接触，高速旋转的工具驱动微粒冲击工件形成沟槽或切断，然后再用同一种工具，对同一位置进行数次抛光，即可实现断面的镜 面抛光。
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